مقاله ی عضو گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان با عنوان « بررسی ویژگی فرکتالی و اپتیکی لایه های تانتالوم تهیه شده با روش تفنگ الکترونی » در نشریه بین المللی
Optical and Quantum Electronics منتشر شده است.
این مقاله با عنوان انگلیسی
Multifractal and optical bandgap characterization of Ta2O5 thin films deposited by electron gun method
توسط مهندس علی آرمان از اعضا گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان جهاد دانشگاهی صنعتی شریف در شماره ۵۲ ژورنال ISI و با ضریب تاثیر ۱٫۵ درتاریخ ۲۹ ژانویه ۲۰۲۰ (۹ بهمن ماه ۱۳۹۸) نگارش شده است.
در چکیده این مقاله آمده است:
در این پژوهش خواص مورفولوژی و اپتیکی لایه های Ta2O5 که به روش تفنگ الکترونی تهیه شده بود بترتیب با کمک آنالیزهای میکروسکوپ نیروی اتمی و اسپکتروفتومتر مورد مطالعه قرار گرفت. با کمک طیف سنجی، ضخامت لایه ها و گاف انرژی لایه ها اندازه گیری شد سپس ارتباط آن با ویژگی های فرکتالی و مورفولوژی سطح لایه ها که با کمک AFM بدست آمده بود مقایسه و بررسی شد.
The micromorphology of tantalum pentoxide (Ta2O5) thin films, deposited on glass substrates by electron gun method, has been analyzed using atomic force microscopy (AFM), UV–Vis–NIR spectrophotometry and multifractal analyses. Two samples were grown at basic pressure of 7 × ۱۰−۶ mbar, work pressures of 1.3 × ۱۰−۴ and 2.0 × ۱۰−۴ mbar, and thicknesses of 0.38 μm and 0.39 μm, respectively. Subsequently, these samples were annealed at 300 °C for 2 h. The physical, structural and optical analyses were investigated by spectroscopic ellipsometry, spectrophotometry and AFM. The measured transmittance spectra were studied based on the Swanepoel method, whose results also yielded to the estimation of the film thickness and the refractive index. Finally, Ta2O5 thin films were characterized by AFM measurements and multifractal analyses for an accurate description of the 3-D surface microtexture features. The fractal examinations of the samples revealed that these microstructures exhibit multifractal characteristics. Essential parameters that characterized the thin films were compared and discussed thoroughly.
