کاربردهای سیستم لایهنشانی تبخیر در خلأ بالا مدلهای ETS و EDS:
– نانوتکنولوژی
– اپتیک و الکترواپتیک
– میکروالکترونیک، ابررساناها، فیلترهای اپتیکی
– تجهیزات اپتیکی و آینههای لیزر
– لایههای دیالکتریک، پوششهای سخت و پوششهای تزئینی
مشخصات دستگاه:
– داراي صفحه كار و درب مستقل
– فشار نهایی: محدوده 6-10 میلی بار
– نوع عملکرد: نیمه اتوماتیک با انواع حفاظتها
• تجهیزات نصب شده روی دستگاه:
– منبع تبخیر پرتو الکترونی با توان 3 کیلووات
– کاتد مگنترون اسپاترینگ (دو یا سه اینچ) جریان مستقیم(کاتد بر روی سیستمهای 160- EDS و 160- ETS قابل نصب است)
– منبع تبخیر مقاومتی با حداکثر جریان 250 آمپر
– ضخامتسنج کریستالی کامپیوتری
– نگهدارنده نمونه چرخان
– گرمکن نمونه تابشی با کنترلر دما