این مقاله با عنوان
Analyzing the fractal feature of nickel thin films surfaces modified by low energy nitrogen
در نشریه بین المللی Vakuum in Forschung und Praxis (VIP) – manuscript acceptance منتشر شد.
مقاله «تجزیه و تحلیل ویژگی های فراکتال سطوح فیلم های نازک اصلاح شده توسط نیتروژن انرژی پایین» توسط آقای علی آرمان از اعضا گروه پژوهشی فناوری خلأ و همکاران پژوهشگر ایشان نگارش شده است.
در چکیده این مقاله آمده است:
لایه‌های نیکل با ضخامت ۱۰۰ نانومتر با استفاده از منبع تبخیر الکترونی بر روی زیرلایه‌هایی از جنس استیل ۳۱۶ نشانده شده و سپس این لایه‌ها تحت تابش یون‌های نیتروژن با انرژی‌های ۲۰،۱۰ و ۵۰ کیلو الکترون ولت قرار داده شده‌اند. آنگاه با استفاده از آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی(AFM) به مطالعه مورفولوژی سطح لایه‌ها و بعد فرکتالی آنها پرداخته شد.
