چاپ مقاله ی اعضای گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان در نشریه بین المللی خلأ

این مقاله با عنوان

Analyzing the fractal feature of nickel thin films surfaces modified by low energy nitrogen

در نشریه بین المللی Vakuum in Forschung und Praxis (VIP) – manuscript acceptance منتشر شد.
مقاله «تجزیه و تحلیل ویژگی های فراکتال سطوح فیلم های نازک اصلاح شده توسط نیتروژن انرژی پایین» توسط آقای علی آرمان از اعضا گروه پژوهشی فناوری خلأ و همکاران پژوهشگر ایشان نگارش شده است.

در چکیده این مقاله آمده است:

لایه‌های نیکل با ضخامت ۱۰۰ نانومتر با استفاده از منبع تبخیر الکترونی بر روی زیرلایه‌هایی از جنس استیل ۳۱۶ نشانده شده و سپس این لایه‌ها تحت تابش یون‌های نیتروژن با انرژی‌های ۲۰،۱۰ و ۵۰ کیلو الکترون ولت قرار داده شده‌اند. آنگاه با استفاده از آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی(AFM) به مطالعه مورفولوژی سطح لایه‌ها و بعد فرکتالی آنها پرداخته شد.