چاپ مقاله ی اعضای گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان جهاددانشگاهی صنعتی شریف در نشریه بین المللی Materials Research Express

  1. اخبـار
  2. اخبار سازمان
  3. چاپ مقاله ی اعضای گروه پژوهشی فناوری خلأ سازمان جهاددانشگاهی صنعتی شریف در نشریه بین المللی Materials Research Express

 این مقاله با عنوان
 «مشخصه یابی تابعی مینکووسکی و آنالیز فرکتال فیلم های نیترید تیتانیوم»

در نشریه بین المللی
Materials Research Express – manuscript acceptance  IOP  منتشر شده است.
این مقاله با عنوان انگلیسی
Minkowski functional characterization and fractal analysis of surfaces of titanium nitride films
توسط آقای مهندس علی آرمان از اعضای گروه پژوهشی فناوری خلأ و با همکاری سایر همکاران پژوهشی ایشان نگارش شده است.
در چکیده این مقاله آمده است:
در این مطالعه برای درک بهتر میکرومورفولوژی لایه های نیترید تیتانیوم که از ترکیب درصد گازهای مختلف نیتروژن و آرگون به روش IBD تهیه شده، از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) استفاده شد. جزئیات بدست آمده از تصاویر AFM با استفاده از توابع Minkowski و آنالیز فرکتالی لایه ها حاکی از آن می باشد که شرایط ساخت، اثر قابل توجهی بر خواص سطحی لایه ها دارد. بنابراین با توجه به پارامترهای مختلف اثر گذار در ساخت لایه ها، می توان با تنظیم شار گاز ورودی بعنوان یکی از این پارامترها، کنترل قابل توجهی بر خواص مکانیکی لایه ها داشت.
 
The aim of this study is to gain a deeper understanding of the micromorphology characteristics of thin titanium nitride (TiN) films sputtered on glass substrates by using ion beam sputtering (IBS). For that purpose, TiN samples were deposited onto glass substrates from gas mixtures with various contents of molecular nitrogen and argon atoms. Atomic force microscopy (AFM) was used to characterize surface microtexture of obtained thin films at high magnification. Detailed analysis of AFM images using Minkowski functionals and fractal analysis reveals significant effect of the preparation conditions on the surface features with non-monotonic dependences. Presented results suggest that non-classical spatial characteristics of variability of the surface topography including fractal dimension, corner frequency, roughness, and feature shape and size, can be tuned having control over the relative flow rates of the gas mixture during film deposition